GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備

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簡要描述：GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備產(chǎn)能可大于40片每小時(shí)，適合DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應(yīng)用領(lǐng)域的量產(chǎn)。

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GL150/300 CLIV紫外納米壓印光刻設(shè)備主要功能

● 全自動(dòng)150/300mm大面積、高精度、高深寬比納米壓印生產(chǎn)線

●CLIV技術(shù)，確保壓印結(jié)構(gòu)精度與結(jié)構(gòu)填充完整性

●Cassette to cassette自動(dòng)上下片，光學(xué)巡邊預(yù)對位

●設(shè)備內(nèi)自動(dòng)復(fù)制柔性復(fù)合工作模具，同時(shí)支持自動(dòng)更換工作模具，適合連續(xù)生產(chǎn)

●自動(dòng)對位、自動(dòng)壓印、自動(dòng)曝光固化、自動(dòng)脫模，工藝過程在密閉潔凈環(huán)境中自動(dòng)進(jìn)行，以保證壓印質(zhì)量

●標(biāo)配高功率紫外LED面光源（365nm，光強(qiáng)>1000mW/cm2 ），水冷冷卻，特殊功率以及特殊、混合波長光源可訂制，支持各種商用納米壓印材料

●產(chǎn)能可大于40片每小時(shí)，適合DOE、AR/VR衍射光波導(dǎo)（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等應(yīng)用領(lǐng)域的量產(chǎn)

●隨機(jī)提供全套納米壓印工藝與材料，包括DOE、AR斜齒光柵、高密度、高深寬比結(jié)構(gòu)等工藝流程，幫助客戶零門檻達(dá)到國際的納米壓印水平

兼容基底尺寸	GL150 CLIV：2inch、3inch、100mm、150mm GL300 CLIV：200mm、300mm 特殊尺寸可定制
支持基底材料	硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等
上下片方式	Cassette to cassette全自動(dòng)上下片
晶圓預(yù)對位	光學(xué)巡邊預(yù)對位
納米壓印技術(shù)	CLIV技術(shù)，適合高精度、高深寬比納米結(jié)構(gòu)壓印
壓印精度	優(yōu)于10納米*
結(jié)構(gòu)深寬比	優(yōu)于10比1*
殘余層控制	可小于10nm*
紫外固化光源	紫外LED（365nm）面光源，光強(qiáng)>1000mW/cm2，水冷冷卻（2000mW/cm2類型光源可選配）
設(shè)備內(nèi)部環(huán)境控制	標(biāo)配，外部環(huán)境Class 100，內(nèi)部環(huán)境可達(dá)Class 10*
自動(dòng)壓印	支持
自動(dòng)脫模	支持
自動(dòng)工作模具復(fù)制	支持
自動(dòng)工作模具更換	支持
模具基底對位功能	自動(dòng)對位（選配）
產(chǎn)能	可大于40片每小時(shí)*

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